- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
真空感應(yīng)懸浮熔煉爐是將分瓣水冷銅坩堝置于強(qiáng)大的交變磁場(chǎng)中,利用感應(yīng)渦流加熱水冷銅坩堝中的金屬使其融化,依靠電磁力使熔融金屬與水冷銅坩堝不產(chǎn)生密切接觸。這樣就避免了坩堝對(duì)需要熔煉材料的污染,從而能夠熔煉出高純度的金屬材料。通過(guò)精練后在水冷銅坩堝內(nèi)的液態(tài)合金也可以通過(guò)旋轉(zhuǎn)澆注入錠模中,可以得到組織致密的合金錠。真空懸浮熔煉爐適用于鈦鋯、稀土材料等活性金屬的熔煉,鈦鋁合金的熔煉與精密鑄造。主要應(yīng)用于生產(chǎn)高純金屬材料、半導(dǎo)體單晶材料、高熔點(diǎn)合金和3D打印等行業(yè)。
技術(shù)參數(shù):
型號(hào)
CYKY-IMC-300
*大熔煉重量(按鈦液計(jì)算)
300g
*高加熱溫度
2200
懸浮電源
ZUI大輸入功率
60KW
ZUI大輸出功率
54KW
采用電源
IGBT懸浮專用電源
振蕩頻率
15-30KHZ(頻率自動(dòng)跟蹤)
冷卻水要求
電源≥0.2MPa
坩堝 ≥0.35MPa
感應(yīng)線圈
懸浮爐專用線圈
輸入電壓
三相380V 50 HZ
融化速率
10~15min
坩堝
懸浮專用水冷銅坩堝
坩堝內(nèi)尺寸
Dia40X50mm
腔體內(nèi)尺寸
Dia700X800
腔體真空度
< 5X10 -3Pa
坩堝可傾倒旋轉(zhuǎn)角度
0-360度 (可任意角度偏轉(zhuǎn))
真空腔體內(nèi)是否可接水冷坩堝
可以
觀察窗尺寸
Dia 90mm
真空機(jī)組
機(jī)組輸入電壓
380V /220V
波紋管
KF40X1000
真空擋板閥
KF40
分子泵
(方案一)
分子泵型號(hào)
FF160/620
輸入電壓
220V
分子泵進(jìn)氣口法蘭
DN160
分子泵抽氣速率L/S(對(duì)空氣)
600
分子泵極限壓強(qiáng)(Pa)
6×10-7
冷卻方式
水冷
冷卻水壓(MPa)
0.1-0.2
冷卻水溫度
<25℃
環(huán)境溫度
0~40℃
建議啟動(dòng)壓強(qiáng)
<100Pa
前機(jī)真空泵TRP-24
功率
0.75KW
電壓
220V
轉(zhuǎn)速
1450rpm
進(jìn)氣口徑
KF25/KF40
前機(jī)泵抽氣速率(L/S)
6
極限壓強(qiáng)
4X10 -2Pa
擴(kuò)散泵TK150
電壓
220V
功率
1000W
極限真空度(在無(wú)泄露時(shí))
10E-5
進(jìn)氣接口
DN150
出氣接口
DN40
注入油量
0.3L
抽氣速率(N2)
1000L/S
復(fù)合真空計(jì)
復(fù)合真空計(jì)型號(hào)
ZDF
電源
220V 55W
控制精度
± 1%
真空計(jì)測(cè)量范圍
10-5 -10 5 Pa