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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-TRP
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)主要由濺射真空室、永磁磁控濺射靶(三個(gè)靶)、單基片加熱臺(tái)、直流電源、射頻電源、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等部分組成。真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于科研院所,實(shí)驗(yàn)室制備單層或多層薄膜,以及新材料新工藝研究。
詳情介紹:

真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)設(shè)備用途:

 用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)技術(shù)參數(shù):

真空室

圓筒型前開門結(jié)構(gòu),尺寸?450×40mm

真空系統(tǒng)配置

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、氣動(dòng)閘板閥、進(jìn)口SMC氣缸節(jié)流閥

極限壓力

6.6 *10-6 Pa。(經(jīng)烘烤除氣后)

恢復(fù)真空時(shí)間

25 分鐘可達(dá)到≤6.6×10-6 Pa。(短時(shí)間撰茲大氣并充入干燥氮?dú)夂箝_始抽氣)

磁控靶組件

永磁靶三套;靶材尺寸?60mm(其中一個(gè)可濺射磁性材料);各靶射頻灘射和直流裁射兼容;靶內(nèi)水冷;三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心;靶與樣品距離 90~130mm可調(diào);每個(gè)靶配進(jìn)口 SMC 旋轉(zhuǎn)氣動(dòng)擋板

單基片加熱臺(tái)

樣品尺寸

?4英寸

運(yùn)動(dòng)方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速 030 轉(zhuǎn)/

加熱

進(jìn)口加熱絲加熱,zui高加熱溫度 600 ±1

擋板形式

進(jìn)口 SMC 轉(zhuǎn)角氣缸控制

氣路系統(tǒng)

質(zhì) 控制器 2

計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)

采用 PLC +工控機(jī)+觸摸屏全自動(dòng)控制方式

可選配件

膜厚儀、氣泵、水冷循環(huán)機(jī)

設(shè)備占地面積

主機(jī)

I000×1800mm2

電控柜

900×600mm2

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